专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种TSV导电通孔结构制备方法-CN202110662046.X有效
  • 李宝霞;刘建军;赵鸿 - 西安微电子技术研究所
  • 2021-06-15 - 2023-06-02 - H01L21/768
  • 本发明公开了一种TSV导电通孔结构制备方法,通过在TSV孔制备晶圆上设置比目标TSV直径大的TSV孔作为套刻标记,利用Bosch工艺过程中对大孔径TSV孔具有更高的刻蚀速度和更深刻蚀效果的特性,保证在完成晶圆上目标TSV孔单面刻蚀目标深度的同时,套刻TSV孔的刻蚀深度不小于晶圆上目标TSV正反面刻蚀目标深度,从而能够在完成晶圆背面减薄后露出套刻TSV孔,在背面以露出的套刻TSV孔作为光刻对版标记,保证晶圆正反面目标TSV孔的套刻精度,能够实现更高深宽比的TSV导电通孔的制备。通过在TSV孔制备晶圆上,设计更大尺寸的TSV孔,作为目标TSV孔的套刻图形,不受限于基板材料与TSV孔尺寸的限制,能够实现不同孔径、高深宽比TSV孔的制备。
  • 一种tsv导电结构制备方法
  • [发明专利]测量TSV铜柱弯曲模量和屈服应力的方法-CN201310261070.8有效
  • 王珺;庞钧文;戴维 - 复旦大学
  • 2013-06-26 - 2013-12-04 - G01N1/28
  • 本发明涉及微电子领域,公开了一种测量TSV铜柱弯曲模量和屈服应力的方法。本发明中,腐蚀埋藏有TSV铜柱的硅片,直至形成TSV铜柱悬臂梁结构;选择用于测量弯曲模量和屈服应力的TSV铜柱,去除多余的TSV铜柱,形成单根或单排的TSV铜柱;在所述用于测量的TSV铜柱的顶端施加横向压力,并记录对TSV铜柱横向施加的压力P、TSV铜柱弯曲的位移δ、施压点到TSV铜柱根部的距离L;根据记录的数据计算TSV铜柱弯曲模量和屈服应力。
  • 测量tsv弯曲屈服应力方法
  • [发明专利]一种带有IPD的TSV孔结构及其加工方法-CN201510055003.X有效
  • 靖向萌 - 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
  • 2015-02-03 - 2017-06-30 - H01L23/522
  • 本发明提供了一种带有IPD的TSV孔结构,采用传统的TSV工艺流程,通过结构设计,使得TSV孔的结构简单,在保证TSV孔简单成型的同时实现了电阻、电容、电感的TSV转接板结构,提高转接板性能,其包括硅晶圆体,其特征在于所述硅晶圆体上设置有多个TSV通孔,所述TSV通孔内连同硅晶圆体表面沉积有绝缘层,所述TSV通孔中至少一个TSV通孔内设置有横向绝缘层,形成TSV通孔上下隔断,所述TSV通孔内电镀金属层,所述TSV通孔上的所述金属层上下端交错互连,所述硅晶圆体表面成型环状电镀金属层,所述环状电镀金属层与所述TSV通孔内电镀金属层互连,本发明同时提供了一种带有IPD的TSV孔结构的加工方法。
  • 一种带有ipdtsv结构及其加工方法
  • [发明专利]一种TSV正面端部互连工艺-CN201310233922.2有效
  • 戴风伟;于大全 - 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
  • 2013-06-13 - 2013-09-04 - H01L21/768
  • 本发明公开了一种TSV正面端部互连工艺,包括:采用刻蚀工艺在基底上制备若干TSV孔;在TSV孔内壁及基底表面制备绝缘层;在TSV孔中及绝缘层表面电镀形成TSV导电柱;CMP工艺,去除包括TSV导电柱在内的一定厚度的硅基底;对TSV导电柱进行退火,使TSV导电柱凸出于基底之上一定高度;在基底及TSV导电柱表面制备钝化层;去除部分钝化层,使TSV导电柱顶部暴露出钝化层;制备TSV导电柱的金属互连结构。本发明通过减小或去除了TSV端部拐角处的应力集中区,降低由于应力而产生绝缘层与基底之间分层或裂纹的可能性;同时利用电镀TSV导电柱并进行退火处理后,TSV导电柱会凸出这一现有工艺的缺陷,实现TSV导电柱与再分布层金属的互连
  • 一种tsv正面互连工艺
  • [发明专利]TSV测试方法及系统、设备及存储介质-CN202110404464.9有效
  • 朱晓锐;殷中云;邓玉良;郑伟坤;庄伟坚;李昂阳 - 深圳市国微电子有限公司
  • 2021-04-15 - 2022-11-11 - H01L21/66
  • 本发明提供了一种TSV测试方法及系统、设备及存储介质,包括:将i初始化为0,判断i是否大于或等于M,若否,则选择N层堆叠芯片中的一组TSV链并赋值为i+1,并对TSV链进行测试;检测1~N层的TSV链是否存在故障,若存在,则检测第P层到第P+1层的TSV链;若第P层到第P+1层的TSV链存在故障,则记录TSV链存在故障的位置,将TSV链存在故障的位置发送至控制器并进行记录,直至1~N层中每一层间均检测完成;当1~N层中每一层间均检测完成后,重复判断i是否大于或等于M,若是,则通过控制器修复所述存在故障的TSV。该方法可以定位到出现故障的TSV上,只对TSV链上出现故障的TSV进行修复,无故障的TSV则不需要修复,且可使用冗余的TSV替换有故障的TSV,不会占用冗余TSV的资源。
  • tsv测试方法系统设备存储介质
  • [发明专利]一种3D集成电路的TSV自动插入方法-CN201410111904.1有效
  • 侯立刚;赵未;汪金辉;彭晓宏;耿淑琴 - 北京工业大学
  • 2014-03-24 - 2017-01-25 - G06F17/50
  • 本发明涉及一种3D集成电路的TSV自动插入方法,属于电路设计领域;首先建立3D集成电路版图的直角坐标系,对已经初步定位的TSV和标准单元进行坐标和尺寸的提取,并按照纵坐标进行分类;然后分别对每一行的标准单元进行移动并插入TSV;在必要的情况下,需要在移动标准单元的同时移动TSV,来保证标准单元移动后TSV与同一行标准单元的相对位置的改变比移动之前尽量小;第一种是将3D集成电路每一层芯片键合起来以后再制作TSV,这要求每层TSV位置都一样,当TSV位置初步确定后,插入TSV时不能移动TSV。第二种是在每层芯片器件制作前制作TSV,此时TSV的位置可以移动,就可以使用移动TSVTSV插入方法。
  • 一种集成电路tsv自动插入方法
  • [发明专利]TSV裸片与封装衬底之间的结合完整性的非接触确定-CN201180040648.6有效
  • 杰弗里·A·韦斯特 - 德州仪器公司
  • 2011-09-29 - 2013-05-01 - H01L21/66
  • 本发明提供一种在部分组装之后确定TSV结合完整性的非接触电压对比VC方法。提供(101)TSV裸片,所述TSV裸片包含从所述TSV裸片的前侧延伸到所述TSV裸片的底侧上的TSV尖端的若干TSV。将至少一些TSV(接触TSV)附接到多层ML封装衬底的顶部表面上的垫。所述ML封装衬底位于阻挡对所述TSV裸片的所述前侧的电接达的衬底载体上。将包含若干群组接触TSV的两个或两个以上网共同系接在所述ML衬底内。将带电粒子参考束引导(102)到第一网内的选定TSV且接着跨越所述第一网中的所述TSV光栅化(103)带电粒子原束。检测(104)所发射的VC信号,并从所述VC信号确定(105)所述接触TSV与所述ML封装衬底的垫的结合完整性。
  • tsv封装衬底之间结合完整性接触确定

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